根據物質的光譜來鑒別物質及確定它的化學組成和相對含量的方法叫光譜分析。其優點是靈敏，迅速。歷史上曾通過光譜分析發現了許多新元素，如銣，銫，氦等。根據分析原理光譜分析可分為發射光譜分析與吸收光譜分析二種；根據被測成分的形態可分為原子光譜分析與分子光譜分析。光譜分析的被測成分是原子的稱為原子光譜，被測成分是分子的則稱為分子光譜。

吸收光譜是根據待測元素的特征光譜，通過樣品蒸汽中待測元素的基態原子吸收被測元素的光譜后被減弱的強度計算其含量。它符合郎珀-比爾定律：A= -lg I/I o= -lgT = KCL

式中I為透射光強度，I0為發射光強度，T為透射比，L為光通過原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。

技術性能及指標

1.   分光室設計

  帕邢-龍格結構,羅蘭圓直徑400mm

  波長范圍140 – 680nm

  像素分辨率10pm

  恒溫33℃±0.2℃

  材質鑄造，保證光室形變小

  間歇式真空系統，可保證真空泵運行時間小于5%

2.   凹面光柵

  刻線密度3600l/mm

  一級光譜線色散率：1.04 nm/mm

3.   檢測器

  高性能線陣CMOS

4.   分析時間

  依樣品種類而不同，一般少于40秒

5.   激發光源

  全數字等離子火花光源技術

  高能預燃技術 (HEPS)

  頻率100-1000Hz

  電流1-80A

6.   激發臺

  3mm樣品臺分析間隙

  噴射電極技術

  設計的氣路系統，保證氬氣消耗

7.   尺寸和重量

  高450mm 長900mm 寬600 mm

  120 kg

8.   功率

  功率0W

  待機功率70W
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