EDX2000A能量色散X熒光光譜儀(全自動(dòng)微區(qū)膜厚測(cè)試儀)對(duì)平面、凹凸、拐角、弧面等簡(jiǎn)單及復(fù)雜形態(tài)的樣品進(jìn)行快速對(duì)焦分析，滿(mǎn)足半導(dǎo)體、芯片及PCB等行業(yè)的非接觸微區(qū)鍍層厚度測(cè)試需求。通過(guò)自動(dòng)化的X軸Y軸Z軸的三維移動(dòng)，雙激光定位和保護(hù)系統(tǒng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
電鍍行業(yè)、電子通訊、新能源、五金衛(wèi)浴、電器設(shè)備
汽車(chē)制造、磁性材料、貴金屬電鍍、高校及科研院所等
設(shè)計(jì)亮點(diǎn)
上照式設(shè)計(jì)，可適應(yīng)更多異型微小樣品的測(cè)試。相較傳統(tǒng)光路，信號(hào)采集效率提升以上。可變焦高精攝像頭，搭配距離補(bǔ)正系統(tǒng)，滿(mǎn)足微小產(chǎn)品，臺(tái)階，深槽，沉孔樣品的測(cè)試需求。可編程自動(dòng)位移平臺(tái)，微小密集型可多點(diǎn)測(cè)試，大大提高測(cè)樣效率。自帶數(shù)據(jù)校對(duì)系統(tǒng)。

X熒光測(cè)厚儀采用X熒光分析技術(shù)，可以測(cè)定各種金屬鍍層的厚度，包括單層、雙層、多層及合金鍍層等，它也可以進(jìn)行電鍍液的成分濃度測(cè)定。它能檢測(cè)出常見(jiàn)金屬鍍層厚度，無(wú)需樣品預(yù)處理；分析時(shí)間短，僅為數(shù)十秒；即可分析出各金屬鍍層的厚度，分析測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍寬，可從0.01M到60M。它是一種能譜分析方法，屬于物理分析方法。當(dāng)鍍層樣品在受到X射線(xiàn)照射時(shí)，其中所含鍍層或基底材料元素的原子受到激發(fā)后會(huì)發(fā)射出各自的特征X射線(xiàn)，探測(cè)器探測(cè)到這些特征X射線(xiàn)后，將其光轉(zhuǎn)變?yōu)槟M；經(jīng)過(guò)模擬數(shù)字變換器將模擬轉(zhuǎn)換為數(shù)字并送入計(jì)算機(jī)進(jìn)行處理；計(jì)算機(jī)的應(yīng)用軟件根據(jù)獲取的譜峰信息，通過(guò)數(shù)據(jù)處理測(cè)定出被測(cè)鍍層樣品中所含元素的種類(lèi)及各元素的鍍層厚度。 
我公司集中了國(guó)內(nèi)的X熒光分析﹑電子技術(shù)等行業(yè)技術(shù)研究開(kāi)發(fā)及生產(chǎn)技術(shù)人員，依靠多年的科學(xué)研究，總結(jié)多年的現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，結(jié)合的特色，開(kāi)發(fā)生產(chǎn)出的X熒光測(cè)厚儀具有快速、準(zhǔn)確、簡(jiǎn)便、實(shí)用等優(yōu)點(diǎn)。 
我公司新研制的X熒光測(cè)厚儀，廣泛用于用于鍍層厚度的測(cè)量、電鍍液厚度的測(cè)量。  
1. 儀器特點(diǎn)： 
Ø  同時(shí)分析元素周期表中由鈦（Ti）以上元素的鍍層厚度； 
Ø  可以分析單層、雙層、三層等金屬及合金鍍層的厚度； 
Ø  無(wú)需復(fù)雜的樣品預(yù)處理過(guò)程；分析測(cè)量動(dòng)態(tài)范圍寬，可從0.01M到60M ； 
Ø  采用的探測(cè)器技術(shù)及的處理線(xiàn)路，處理速度快，精度高，穩(wěn)定可靠； 
Ø  采用正高壓激發(fā)的微聚焦的X光管，激發(fā)與測(cè)試條件采用計(jì)算機(jī)軟件數(shù)碼控制與顯示； 
Ø  采用彩色攝像頭，準(zhǔn)確觀(guān)察樣品并可拍照保存樣品圖像； 
Ø  采用電動(dòng)控制樣品平臺(tái)，可以進(jìn)行X-Y-Z的，準(zhǔn)確方便； 
Ø  采用雙激光對(duì)焦系統(tǒng)，準(zhǔn)確定位測(cè)量位置； 
Ø  度高，穩(wěn)定性好，故障率低； 
Ø  采用多層屏蔽保護(hù)，安全性可靠； 
Ø  WINDOWS XP 中文應(yīng)用軟件，特的分析方法，完備強(qiáng)大的功能，操作簡(jiǎn)單，使用方便,  分析結(jié)果存入標(biāo)準(zhǔn)ACCESS數(shù)據(jù)庫(kù)；  
2、儀器的技術(shù)特性 
2.1 X-Y-Z樣品平臺(tái)裝置 
 X熒光測(cè)厚儀的X-Y-Z樣品平臺(tái)裝置具有可容納各種形態(tài)被測(cè)樣品的樣品室。 
樣品種類(lèi)：各種形狀的鍍層樣品，及電鍍液體樣品。 
平臺(tái)：X-Y-Z采用電動(dòng)方式，實(shí)用方便。

臺(tái)式x射線(xiàn)測(cè)厚儀可測(cè)量：?jiǎn)我诲儗樱篫n，Ni，Cr，Cu，Ag，Au，Sn等。
二元合金層：例如Fe上的SnPb，ZnNi和NiP合金。
合金層：例如Ni上的AuCdCu合金。
雙鍍層：例如Au/Ni/Cu，Cr/Ni/Cu，Au/Ag/Ni，Sn/Cu/Brass，等等。
雙鍍層，其中一個(gè)鍍層為合金層：例如Cr/NiCu/Plastic；Fe。
應(yīng)用領(lǐng)域：黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)；金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定；貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行、首飾銷(xiāo)售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。
快速、的分析：
大面積正比計(jì)數(shù)探測(cè)器和50瓦微聚焦X射線(xiàn)光管（X射線(xiàn)光束強(qiáng)度大、斑點(diǎn)小，樣品激發(fā)佳）相結(jié)合，提供靈敏度
簡(jiǎn)單的元素區(qū)分：
通過(guò)次級(jí)射線(xiàn)濾波器分離元素的重疊光譜 
性能優(yōu)化，可分析的元素范圍大：
預(yù)置800多種容易選擇的應(yīng)用參數(shù)/方法
的長(zhǎng)期穩(wěn)定性：
自動(dòng)熱補(bǔ)償功能測(cè)量?jī)x器溫度變化并做修正，確保穩(wěn)定的測(cè)試結(jié)果
例行進(jìn)行簡(jiǎn)單快速的波譜校準(zhǔn)，可自動(dòng)檢查儀器性能（例如靈敏性）并進(jìn)行必要的修正
堅(jiān)固耐用的設(shè)計(jì)
可在實(shí)驗(yàn)室或生產(chǎn)操作
堅(jiān)固的工業(yè)設(shè)計(jì)

產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域
測(cè)量超微小部件和結(jié)構(gòu),如:印制線(xiàn)路板、連接器或引線(xiàn)框架等;
分析超薄鍍層,如:厚度薄至2nm的Au鍍層和≤30nm的Pd鍍層;
測(cè)量電子和半導(dǎo)體行業(yè)中的功能性鍍層;
分析復(fù)雜的多鍍層系統(tǒng);
全自動(dòng)測(cè)量,如:用于質(zhì)量控制領(lǐng)域;
符合ENIG/ENEPIG要求,符合DINISO3497,ASTMB568,IPC4552和IPC4556標(biāo)準(zhǔn)。
天瑞儀器股份有限公司集30多年X熒光膜厚測(cè)量技術(shù),研發(fā)的一款全新上照式X射線(xiàn)熒光分析儀,該款儀器配置嵌入集成式多準(zhǔn)直孔、濾光片自動(dòng)切換裝置和雙攝像頭,不僅能展現(xiàn)測(cè)試部位的細(xì)節(jié),也能呈現(xiàn)出高清廣角視野;自動(dòng)化的X/Y/Z軸的三維移動(dòng),實(shí)現(xiàn)對(duì)平面、凹凸、拐角、弧面等形態(tài)的樣品進(jìn)行快速對(duì)焦分析。能地滿(mǎn)足半導(dǎo)體、芯片及PCB等行業(yè)的非接觸微區(qū)鍍層厚度測(cè)試需求。
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