光譜分析儀是一種用于測量發(fā)光體的輻射光譜，即發(fā)光體本身的指標參數(shù)的儀器。廣泛應用于科研、教學、工業(yè)等多領域。CNI提供、、軟件分析等產(chǎn)品。
光譜分析儀的優(yōu)點：
1.采樣方式靈活，對于稀有和貴重金屬的檢測和分析可以節(jié)約取樣帶來的損耗。
2.測試速率高，可設定多通道瞬間多點采集，并通過計算器實時輸出。
3.對于一些機械零件可以做到無損檢測，而不破壞樣品，便于進行無損檢測。
4.分析速度較快，比較適用做爐前分析或現(xiàn)場分析，從而達到快速檢測。
5.分析結(jié)果的準確性是建立在化學分析標樣的基礎上。
光譜分析儀的缺點：
1.對于非金屬和界于金屬和非金屬之間的元素很難做到準確檢測。
2.不是原始方法，不能作為仲裁分析方法，檢測結(jié)果不能做為認證依據(jù)。
3.受各企業(yè)產(chǎn)品相對壟斷的因素，購買和維護成本都比較高，性價比較低。
4.需要大量代表性樣品進行化學分析建模，對于小批量樣品檢測顯然不切實際。
5.模型需要不新，在儀器發(fā)生變化或者標準樣品發(fā)生變化時，模型也要變化。
6.建模成本很高，素分析儀測試成本也就比較大了，當然對于大量樣品檢測時，測試成本會下降。
7.易受光學系統(tǒng)參數(shù)等外部或內(nèi)部因素影響，經(jīng)常出現(xiàn)曲線非線性問題，對檢測結(jié)果的準確度影響較大。

技術性能及指標

1.   分光室設計

  帕邢-龍格結(jié)構,羅蘭圓直徑400mm

  波長范圍140 – 680nm

  像素分辨率10pm

  恒溫33℃±0.2℃

  材質(zhì)鑄造，保證光室形變小

  間歇式真空系統(tǒng)，可保證真空泵運行時間小于5

2.   凹面光柵

  刻線密度3600l/mm

  一級光譜線色散率：1.04 nm/mm

3.   檢測器

  高性能線陣CMOS

4.   分析時間

  依樣品種類而不同，一般少于40秒

5.   激發(fā)光源

  全數(shù)字等離子火花光源技術

  高能預燃技術 (HEPS)

  頻率100-1000Hz

  電流1-80A

6.   激發(fā)臺

  3mm樣品臺分析間隙

  噴射電極技術

  設計的氣路系統(tǒng)，保證氬氣消耗

7.   尺寸和重量

  高450mm 長900mm 寬600 mm

  120 kg

8.   功率

  功率0W

  待機功率70W

光譜儀，又稱分光儀，廣泛為認知的為直讀光譜儀。以光電倍增管等光探測器測量譜線不同波長位置強度的裝置。其構造由一個入射狹縫，散系統(tǒng)，一個成像系統(tǒng)和一個或多個出射狹縫組成。以色散元件將輻射源的電磁輻射分離出所需要的波長或波長區(qū)域，并在選定的波長上（或掃描某一波段）進行強度測定。分為單色儀和多色儀兩種。

能量的能級狀態(tài)稱為基態(tài)能級（E0=0），其余能級稱為激發(fā)態(tài)能級，而能的激發(fā)態(tài)則稱為激發(fā)態(tài)。正常情況下，原子處于基態(tài)，核外電子在各自能量的軌道上運動。
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